摘要：近年來，薄膜材料和薄膜技術獲得迅速發展。透明導電薄膜作為功能薄膜中極其特色的一種光電材料，在光電領域擁有廣泛的用途。透明導電薄膜的制備方法很多，其中磁控濺射技術具有高速濺射、基板低溫、低損傷等優點在薄膜的制備領域有著廣泛的應用，所以對透明導電薄膜的磁控濺射制備及其性能的研究無論在理論還是在實際應用上都具有十分重要的現實意義。但在制備過程中也存在一些問題，本文中采用磁控濺射技術，探索不同的實驗條件制備薄膜。在前人研究的基礎上，介紹了磁控濺射透明導電薄膜的制備以及對其性能進行了進一步的研究。

關鍵詞:  磁控濺射，薄膜技術，薄膜材料，透明導電薄膜

目錄

摘要

Abstract

第一章 緒論-3

1.1 透明導電薄膜發展簡史-3

1.2 透明導電薄膜材料的研究-4

1.3 柔性透明導電薄膜-7

1.4 本章小結-8

第二章 透明導電薄膜的制備-8

2.1 透明導電薄膜的制備方法概述-8

2.2 磁控濺射原理概述-9

2.3磁控濺射制備柔性透明導電薄膜-11

第三章 實驗結果及討論-12

3.1 薄膜的晶體結構-12

3.2 薄膜的透射率-13

3.3 薄膜導電性能分析-14

3.4本章小結-14

第四章 結論-16

參考文獻-17

致謝-19