摘要:近幾十年來，薄膜材料和薄膜技術(shù)迅速發(fā)展起來。各種新型薄膜材料、薄膜生產(chǎn)和微加工技術(shù)的創(chuàng)新，在高新技術(shù)應(yīng)用中的各種薄膜也越來越受歡迎。薄膜技術(shù)與薄膜材料一直是人們關(guān)注的問題，主要是基于薄膜和薄膜技術(shù)是實(shí)現(xiàn)薄、薄設(shè)備和系統(tǒng)集成的有效手 段。磁控濺射技術(shù)在薄膜制備領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，不同的制備工藝和制備工藝對(duì)薄膜樣品有重要的影響。利用磁控濺射技術(shù)制備金屬薄膜的不同實(shí)驗(yàn)條件。  

基于CDO的性能優(yōu)化的透明導(dǎo)電薄膜的制備進(jìn)行了綜述，并對(duì)CDO薄膜的光電性能和當(dāng)前的研究熱點(diǎn)進(jìn)行了討論。指出采用材料選擇、工藝參數(shù)設(shè)置和多層光整定方法，可以提高透明導(dǎo)電薄膜的綜合性能。隨著金屬元素的添加，以提高性能的方法，如加入：Zn、In等。適當(dāng)?shù)母倪M(jìn)，以滿足高技術(shù)的需要。 

關(guān)鍵詞：磁控濺射；薄膜材料；光電性能

目錄

摘要

Abstract

1 引言4

  1.1 透明導(dǎo)電膜的性能  4

  1.2制備透明導(dǎo)電薄膜的方法4

2 透明導(dǎo)電膜的性能5

  2.1 導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)5

  2.2 ITO薄膜的電學(xué)性質(zhì)  5

  2.3 ITO薄膜的光學(xué)性質(zhì) 6

3 透明導(dǎo)電膜的種類6

4 TCO薄膜制備工藝的進(jìn)展6

  4.1 襯底材料6

  4.2 物理汽相沉積（PVD）7

  4.3 化學(xué)汽相沉積（CVD）法7

  4.4 溶膠-凝膠（Sol-Gel）法8

5 透明導(dǎo)電薄膜的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用8

  5.1 透明導(dǎo)電薄膜的研究現(xiàn)狀8

  5.2 透明導(dǎo)電薄膜的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用10

結(jié)論 11

參考文獻(xiàn)12

致謝 13